Départements de recherche

Gravure Plasma - Chimique


Ressource Gravure


La centrale de technologie MIMENTO possède une ressource dédiée à la gravure de différents matériaux soit par gravure sèche soit par gravure chimique. Ainsi par le choix des gaz réactifs appropriés, une large gamme de matériaux peut être gravée (Silicium, Quartz, Verre, LiNbO3..). De même une grande gamme de graveurs (ou etchants) est disponible permettant des gravures plus ou moins sélectives en milieu humide à l'ambiante ou en bains thermostatés.

• Gravure Plasma

Photo_Gravure



Liste des matériaux gravés par plasma au sein de la centrale MIMENTO :

Tableau des matériaux gravés

Matériaux usinables par plasma au sein de la centrale MIMENTO



Equipements :

Bâti de gravure profonde DRIE, ALCATEL
Photo Equipement RAPIER SPTS
STS5
Bâti de gravure ionique réactive fluoré PLASSYS
Equipement Nanoplas


• Gravure Chimique

Phot_Gravure chimie


Equipements :

Paillasse d'usinage humide (KOH + BHF) (CTMN)
Paillasse de Si poreux
Photo_Equipement Vapeur HF_1


Contact :

Gravure Plasma : djaffar.belharet@femto-st.fr

Gravure Chimique : laurent.robert@femto-st.fr / tristan.faure@femto-st.fr