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Lithographie électronique Raith E_Line


Lithographie électronique
Raith E_Line
Litho1


Contact :

Roland SALUT
Bâtiment TEMIS Sciences - Bureau N2-28
03 63 08 21 07 (Bureau)
03 63 08 21 11 (Salle Lithographie E-Beam)
roland.salut@femto-st.fr


Site :
Salle Blanche TEMIS
Zone Lithographie



Fonctionnement :

La résine électro-sensible est déposée sur le substrat par spin-coating. Grâce au système Raith E_Line, cette résine est bombardée par un faisceau électronique de haute énergie selon un motif préalablement réalisé au format gdsii. Après développement dans une solution appropriée, la résine insolée va se dissoudre (cas d’une résine positive).


Litho2



Caractéristiques techniques :

- Filament : Schottky TFE
- Déplacement de la platine : 100mm x 100mm x 30mm
- Taille de spot : <2nm @ 20keV
- Plage de courant : 5pA – 20nA
- Densité de courant : > 7500 A/cm²
- Stabilité du courant : <0 .5%/h
- Détecteurs : In Lens, Everhart Thornley
- Largeur de ligne min : 20nm
- Précision de raccord de champ : 60nm (mean 3 sigma)
- Précision d’ajustement niveau à niveau : 40nm (mean 3 sigma)
- Taille d’échantillon : de puces à wafer 4 pouces
- Format de fichiers : GDSII

Pour plus de détails, se reporter à :
\Maximus\partage\LPMO\TECHNO\doc_ebeam \eline_technical_description.pdf


Résines disponibles :

Les résines disponibles sont les suivantes :

Tableau résines disposnibles Ebeam



Les procédés complets ainsi que les datasheets des résines sont disponibles dans :

\Maximus\partage\LPMO\TECHNO\doc_ebeam


Exemples de réalisation :


Litho5
Litho6
Litho7