Machine de rodage et de polissage de haute précision capable de polir différents types de matériaux (Silicium, verre, quartz, PZT, niobate de lithium...).
Cette machine est compatible CMP (planarisation mécano-chimique).
Caractéristiques :
Système d'alimentation automatique en abrasif
Cylindre et mouvement excentrique de la fourche
Maintient de l'échantillon par le vide
Equipé d'une tête de rodage et polissage de précision PP6GT
Diamètre du plateau : 30 cm
Dimension max des wafers : 4 pouces
Epaisseur max de l'échantillon : 11 mm
Précision sur l'épaisseur : 2 à 3 µm
Rugosité obtenue : de l'ordre du nanomètre
Réglage précis de la pression à laquelle est soumi l'échantillon pendant le polissage (0 à 4000 g)
Comparateur à aiguille indiquant la matière enlevée