De la recherche fondamentale au partenariat industriel

Pulvérisation DC : PLASSYS

Pulvérisation DC : PLASSYS
PULVERISATION DC : PLASSYS

Cette machine permet de déposer des métaux sur tout type de substrats isolants ou conducteurs

Caractéristiques :

  • Gaz : argon.
  • Cathodes : 3 sources DC magnétron 4 pouces dont un magnétron renforcé particulièrement adapté au Nickel et une source DC magnétron 6 pouces
  • Cibles disponibles : Al, Ti, Cr, Ni, Cu, Au, Nb, W, Pd, Pt, Mo.
  • Alimentation DC : 20 mA à 1 A (1 kW max., régulation en puissance intensité ou tension)
  • Polarisations substrat : décapage ionique de 20 à 250 W (RF Generator HFS 500E).
  • Porte substrat : 4 échantillons jusqu'à 4 pouces rotatif et positionnable
  • Pas de chauffage substrat.
  • Pas de sas de chargement.
  • Ligne de pompage : pompe primaire 2063 alcatel et pompe secondaire Cryo Torr 8 CTI Cryogenics.
imprimer Haut de page
version : fr ⇒ version : en