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Pulvérisation Radiofréquence : ALCATEL SCM 441

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ALCATEL SCM

PULVERISATION RADIOFREQUENCE : ALCATEL SCM 441
PULVERISATION RADIOFREQUENCE : ALCATEL SCM 441

Caractéristiques :

  • Gaz : argon, azote, oxygène.
  • Cathodes : 1 source diode radiofréquence 3 pouces, 1 source diode magnétron radiofréquence 4 pouces et 1 source diode magnétron radiofréquence 6 pouces
  • Densité de puissance : 10 W/cm² max.
  • Cibles disponibles : Al, Ti, Cr, Ni, Cu, Au, Pt, Pd, SiO2, TiO2, TiN.
  • Puissance RF : de 20 à 500 W (RF Generator HFS 500E)
  • Polarisations substrat : bias de 5 à 50 W ou décapage ionique de 20 à 250 W (650 V max.).
  • Porte substrat : 4 échantillons jusqu'à 3 pouces carré rotatif ou positionnable
  • Pas de chauffage substrat
  • Pas de sas de chargement
  • Ligne de pompage : pompe primaire 2063 et pompe turbo moléculaire Alcatel 5402 CP avec bypass

Il est possible d'installer un moteur pour effectuer des dépôts sur des pièces en rotation comme des fibres optiques par exemple.

Cette machine permet de déposer des métaux et des isolants sur tout type de substrats isolants ou conducteurs. Elle permet aussi de travailler en mode réactif.

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