De la recherche fondamentale au partenariat industriel

Pulvérisation Réactive d'ALN : PLASSYS

Pulvérisation Réactive d'ALN : PLASSYS
PULVERISATION REACTIVE D'ALN : PLASSYS

Cette machine permet de déposer des couches minces piézoélectriques en nitrure d'aluminium et de réaliser des électrodes en aluminium

Caractéristiques :

  • gaz : Ar, N2
  • cathode : magnétron 4 pouces
  • alimentation : 1,5 kW en DC
  • cible : Al
  • polarisation substrat : RF 300 W max.
  • porte substrat : 1 échantillon jusqu'à 4 pouces
  • chauffage substrat : jusqu'à 800 °C
  • sas de chargement : oui
  • pompage secondaire : pompe cryogénique
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