De la recherche fondamentale au partenariat industriel

Pulvérisation

Pulvérisation

Pulvérisation AC450 DC/RF (Alliance Concept)

Equipement de pulvérisation multicibles permettant de déposer tout type de matériaux inorganiques (métalliques et céramiques), sur tout type de substrats. Possibilité de faire de l'assistance de procédé au moyen de la polarisation du porte-substrat, chauffage du substrat jusqu'à 850ºC ou d'un bombardement ionique.

Pulvérisation (CREST)

Caractéristiques :

  • Gaz : argon, acétylène, azote, oxygène ou tout autre gaz ou mélange de gaz
  • 2 Cathodes magnétron DC de 2 pouces dont un magnétron renforcé particulièrement adapté aux matériaux magnétiques
  • 1 Cathode magnétron RF de 2 pouces
  • 2 Cathodes magnétron DC de 2 pouces en position confocale pour réaliser la pulvérisation simultanée de deux matériaux cibles
  • Cibles disponibles : Al, Ti, Cr, Ni, Cu, Ag, Nb, W, V, Fe, Mo, B, Zr, Ta, Si, C, Co, NiTi, TiAl, SiO2, Ni2MnGa ou tout autre matériaux cible ou alliage.
  • 2 Alimentations DC : 1,5 kW max., régulation en puissance intensité ou tension
  • 2 alimentations RF (13,56 MHz) 300W
  • Polarisations substrat : Mode DC ou RF
  • Porte substrat : 3 pouces rotatif, positionnable, polarisable et chauffant jusqu'à 850ºC
  • Equipé d'un canon à ion (micro ondes 2,45GHz) : bombardement ionique avec des ions argon d'énergie jusqu'à 2000éV
  • Groupe de pompage : primaire VARIAN 1002 Turbo VARIAN VT 1001
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