De la recherche fondamentale au partenariat industriel

Graveur RIE fluorée PLASSYS

Graveur RIE fluorée PLASSYS
Bâti de gravure ionique réactive fluoré PLASSYS

Caractéristiques :

  • Puissance RF : 300 W max.
  • Gaz : SF6, O2, CHF3, C2F6
  • Substrat : 4 pouces max sur plateau en silice.
  • Détecteur de fin d'attaque : interférométrie laser 633 nanomètre
  • Matériaux gravés : Si, SiO2, Si3N4, Quartz, Ti, LiNbO3
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