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Bâti d'évaporation par effet joule Alcatel

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Bâti d'évaporation par effet joule Alcatel
Bâti d'évaporation par effet joule

Dépôt de couches minces par évaporation sous vide par effet Joule.

  • Vide secondaire vide limite 5.10-7 mbar.
  • Dépôt de deux matériaux simultanément (Chrome et Or pour nos applications) déposés dans 2 creusets différents.
  • Contrôle de l'épaisseur déposée.
  • Distance creuset - échantillon : 20 cm
  • Porte - substrat tournant et chauffant (jusqu'à 400ºC).
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