De la recherche fondamentale au partenariat industriel

Nanotechnologies

Nanotechnologies

Description :

La centrale de technologie MIMENTO possède deux appareils permettant des réalisations à l’échelle sub-micrométrique. La station de lithographie par faisceau d’électrons (Ebeam) permet ainsi de nanostructurer des résines électro-sensibles tandis que le FIB permet de réaliser des gravures localisées par faisceau d’ions avec une très grande précision.

Bâti de gravure ionique focalisée (FIB), ORSAY PHYSICS



Bâti de gravure ionique focalisée FIB, ORSAY PHYSICS

Litho1







Lithographie électronique Raith E_Line

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