FEMTO-ST-Franche Comté Electronique Mécanique Thermique et Optique - Sciences et Technologies
Video de présentation
De la recherche fondamentale au partenariat industriel
Départements de recherche
automatique
(AS2M)
Informatique
(DISC)
énergie
mécanique appliquée
(méc'appli)
micro nano
(MN2S)
optique
temps fréquence
Aligneur EVG 620
Accueil
>
Centrale de technologie MIMENTO
>
Ressources disponibles
>
Photolithographie
> Aligneur EVG 620
Les pages de cette rubrique...
Accueil rubrique
Tournette RC-8 KARLSUSS
Aligneur EVG 620
Aligneur Simple Face SET
Les résines photosensibles
Spray Coating
Masqueur Lithographie Optique
Aligneur EVG 620
Aligneur Double Face EVG 620
Caractéristiques :
Taille des masques : 3, 4 ou 5 pouces.
Substrats : 2, 3 ou 4 pouces.
Puissance typique de la lampe : 13 mW/cm2
Mode d'exposition : temps ou énergie constante
Type de plaquages : proximité, soft contact, hard contact ou vacuum contact (chambre à vide)
Précision de l'alignement : 0,5 µm (alignement par le dessus) 1 µm (alignement par le dessous)
Résolution théorique :
soft contact : < 2 µm
hard contact : 0,8 à 1,5 µm
vacuum contact : 0,6 µm
Haut de page
⇒
L'institut
Présentation
Agenda
Faits marquants
Contacts
Accès
Organigramme
Services Communs
Projets
Publications
Actualité
Départements de recherche
AS2M
DISC
ENERGIE
MEC'APPLI
MN2S
OPTIQUE
TEMPS-FREQUENCE
Centrale de technologie MIMENTO
Présentation
Ressources disponibles
Atelier pilote
Ligne Pilote
Contact
Projets interdépartements
Formations
PRES - Bourgogne - Franche-Comté
Plateforme Technologique "Instrumentation et caractérisation"
Rechercher
Personnel
Annuaire
Emplois, thèses, stages
ATTOME - Association des temporaires
Laboratoires communs
LPMX
FC-LAB
LNE-FEMTO-ST
Georgia Tech - CNRS (UMI 2958)
LEA Microtechnique
Références
Start-up
Liens utiles
Vulgarisation et diffusion
Intranet