De la recherche fondamentale au partenariat industriel

Compositions ajustables

Compositions ajustables

L’élaboration de films minces céramiques par pulvérisation cathodique réactive est limitée par des phénomènes non-linéaires (hystérésis des paramètres de dépôt). La conséquence directe de l’emploi d’une méthode conventionnelle est une gamme de compositions réduites. Dans le cas du système Ti-O2-N2, la pulvérisation réactive classique permet essentiellement d’obtenir des films de TiO2 dopés N ou inversement, des TiN dopés O. Le développement de la technique RGPP (Reactive Gas Pulsing Process) offre le grand avantage de préparer de nouveaux composés : les oxynitrures métalliques. En modifiant judicieusement les conditions de dépôt, il est ainsi possible de moduler la composition d’un film mince d’oxynitrure du nitrure à l’oxyde métallique. Pour le système Ti-O2-N2, des films minces de TiOxNy sont produits en variant progressivement x et y selon 0 < x < 2 et 0 < y < 1

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Résultats marquants

- J. Guillot, J.M. Chappé, O. Heintz, N. Martin, L. Imhoff and J. Takadoum, “Phase mixture in MOCVD and reactive sputtering TiOxNy thin films revealed and quantified by XPS spectra factorial analysis”, Acta Materialia 54 (2006) 3067-3074.
- J.M. Chappé, N. Martin, J. Lintymer, J. Gavoille, F. Sthal and J. Takadoum, “Propriétés colorimétriques de couches minces d’oxynitrures de titane élaborées par pulvérisation cathodique réactive”, Matériaux et Techniques 84 (2006) 31-37.
- J.M. Chappé, J. Gavoille, N. Martin, J. Lintymer and J. Takadoum, “Substrate temperature effects on structural and mechanical properties of TiOxNy coatings sputter deposited”, J. Mater. Sci. 41(17) (2006) 5639-5645.

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